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有了高纯单体,“墨子材料”的配方终于发挥了威力。
再加上“计算成像”检测系统的辅助,光刻胶的良率开始爬坡。
30%……60%……85%……
一周后。
第一批500公斤国产ArF浸没式光刻胶,连同配套的显影液,被紧急运往了中芯国际的生产线。
上机测试。
曝光,显影,刻蚀。
当最终的良率报告出来时,中芯的总工沉默了。
良率:99.2%。
这不仅达到了日本货的水平,甚至在某些关键层,如多晶硅栅的刻蚀选择比上,超过了日本JSR的产品!
为什么?
因为这是“定制化”的。
日本人的胶是通用的,而林远的胶,是根据国内光刻机的特定光源参数,用AI进行过分子级适配的。
这就是全产业链闭环的威力。
江州。
林远看着那一桶桶正在装车的国产光刻胶,脸上并没有太多喜色。
他知道,萧若冰不会就这样认输。
材料战,她输了。
但她手里还有最后一张,也是最恶心的一张牌专利。
“老板,”顾盼走了过来,神色凝重。
“刚刚收到律师函。”
“信越化学和JSR,联合在海牙国际法庭和美国Itc,对墨子材料和江南之芯提起了专利诉讼。”
“他们指控我们的光刻胶树脂结构,侵犯了他们第Jp-2015-xxxx号基础专利。”
“那是保护基团的化学结构专利。”
“只要我们用了这种化学键,就是侵权。”
“他们要求全球禁售,并赔偿50亿美金。”
林远接过律师函,看了一眼那复杂的分子式结构图。
“保护基团?”
林远冷笑一声。
“他们以为,化学结构只有这一种写法吗?”
他看向旁边的李振声教授和汉斯。
“启动分子异构计划。”
“用我们的盘古大模型,去计算出一种,化学性质完全相同,但分子结构完全不同的全新保护基团!”
“我们要用AI,去绕开他们的专利墙。”
“不仅要绕开。”
林远眼中闪过一丝狠厉。
“我们还要把这种新结构,申请成专利!”
“然后,反过来,去告他们术落后!”