技术人员小心翼翼地将其取出，放入检测设备中，屏幕上瞬间跳出密密麻麻的参数曲线。

    “线宽均匀度误差±0.0028微米，符合设计标准！”检测工程师高声汇报，声音里带着难以掩饰的激动，“关键电路纹路无锯齿、无桥连，光刻质量远超预期！”

    沈院士俯身细看检测报告，眼中满是震撼：“这种精度，放在国际上也是顶尖水准！要知道，国外同级别45纳米光刻机的线宽误差普遍在±0.004微米左右，你们足足提升了30%。”

    随着时间推移，一片片晶圆陆续完成光刻。

    车间里的紧张氛围逐渐被喜悦取代，技术人员们脸上都洋溢着兴奋的笑容，互相击掌庆祝。

    四个小时后，100片试产晶圆全部完成。

    王世杰刷新数据平板，声音带着抑制不住的颤抖：“楚总、沈院士，试产结果出来了！良率稳定在94.3%，连续100片无任何设备故障，稳定性完全达标！”

    hai