片。”

    “45纳米！”沈院士的声音陡然拔高，快步走到观察窗前，手指紧紧贴在玻璃上。

    屏幕上，经过多重曝光的电路图案清晰锐利，线宽误差稳定在±0.004微米以内，这精度远超他的预期。

    他转头看向王世杰，语气带着难以置信的激动：“你们不仅解锁了系统，还掌握了多重曝光技术？这怎么可能！国际上能做到用65纳米设备生产45纳米芯片的厂商，一共也没有几家！”

    王世杰轻笑一声，“能做到的厂家不多，那是人家本身就拥有45纳米光刻机，不需要利用多重曝光技术！”

    沈院士怔在原地，目光反复扫过屏幕上的光刻数据与设备运转状态，指尖因激动而微微颤抖。

    他深耕微电子领域数十年，太清楚“用65纳米设备生产45纳米芯片”意味着什么。

    这不仅是技术突破，更是打破国外设备垄断的关键一步。

    “多重曝光的套刻精度、光刻胶兼容性、良率控制……这些难题你们都解决了？”沈院士快步走到设备旁，目光落在晶圆传送臂上，声音里满是急切。