193nm深紫外。

    功率：100w瓦。

    “100瓦？！”温彼得通过视频连线惊得从椅子上跳了起来。

    传统的dUV光刻机光源，功率只有40w-60w。

    EUV光源，拼了老命才做到250w。

    而林远这台“原型机”，第一次开机就干到了100w。

    而且，这是连续波cw，不是脉冲波。稳定性极高。

    “这就是SSmb的威力。”丁院士摘下眼镜，擦了擦眼角的泪水，“这是中国的第一束工业级粒子光。”

    林远看着那道看不见的紫外光束在屏幕上显示为紫色光斑。

    他知道，光刻机的光源问题，彻底解决了。

    不需要KbbF晶体了。

    不需要受制于人了。

    他用一个缩小版的“粒子加速器”，造出了世界上最强的深紫外灯泡。

    虽然光源造出来了，但这个“灯泡”有点太大了。

    整套系统占地200平方米。

    目前的半导体工厂Fab，寸土寸金。要把这么个大家伙塞进光刻车间，需要对厂房进行伤筋动骨的改造。

    而且，还有一个致命的问题辐射。

    电子加速会产生高能辐射x射线、伽马射线。

    “我们需要给它穿上一层铅衣。”王海冰计算着，“至少需要500吨的铅和混凝土屏蔽层。”

    “这会压垮厂房的地基。”

    林远看着那个庞然大物。

    “既然厂房装不下……”

    “那我们就光电分离。”

    “把光源建在厂房外面，建在地下。”

    “然后，通过光束传输线把光引到光刻机里去！”

    “就像自来水一样。”

    “我们要建一座光子工厂photon Factory。”

    “一座光源，可以同时给十台、二十台光刻机供光！”

    这又是一个颠覆性的概念。

    ASmL的光刻机，是一机一源。

    林远要搞“一源多机”。

    这将彻底改变半导体工厂的形态。

    但是，要传输193nm的深紫外光，普通的镜子不行，光纤也不行。空气都会吸收它。

    需要“超高真空管道”和“多层膜反射镜”。

    而这，又将触碰到另一个材料学的禁区。

    林远刚放下的心，又悬了起来。