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第426章 深紫深渊(1/3)

    江州,启明防务技术研究院,红区pFL实验室。

    这里是整个集团保密等级最高的区域,门口站着两名荷枪实弹的哨兵。

    实验室内,一个被铅板严密包裹的保险箱被缓缓打开。

    在那里面,躺着一块仅有指甲盖大小、呈现出淡紫色的透明晶体。

    这就是KbbF氟硼铍酸钾。中国独有的战略资源,全球唯一能直接倍频产生深紫外激光的非线性晶体。

    “这就是我们要的心脏。”

    李振声教授戴着防静电手套,小心翼翼地将其夹起,放入显微镜下。

    “但是林董,有个大麻烦。”

    李振声指着显示屏上的晶体侧面图。

    “KbbF是层状结构,像云母一样。层与层之间结合力极弱。一旦我们试图用传统的抛光机去磨它,它就会像书本一样散架。”

    “而且,它含有剧毒的铍元素。加工产生的粉尘如果被吸入,会引起铍肺病。没有专门的负压加工中心,没人敢动它。”

    “最要命的是,”王海冰在一旁补充道,“要产生193nm的深紫外光,我们需要用四倍频技术。也就是把基频激光的波长压缩四次。”

    “这意味着,这块小小的晶体,要承受极高的能量密度。如果表面有一点点划痕或杂质,激光瞬间就会把它打穿,变成一堆废粉。”

    “我们需要原子级的表面平整度,国内的光学加工厂,做不到。”

    林远看着那块脆弱而致命的晶体。

    “既然磨不了,那就粘。”

    “棱镜耦合技术。”

    这是中国科学家陈创天院士当年的独门绝技。

    “我们不直接磨KbbF。我们将它夹在两块高精度的石英棱镜中间,利用光胶技术,靠分子间作用力让它们死死粘在一起。”

    “然后,我们磨石英,不磨晶体。”

    “这需要极高的手工技艺。”林远看向王海冰,“去把中科院福建物构所的老师傅请来。这种手艺活,机器干不了,人能干。”

    解决了晶体的固定,真正的噩梦才刚刚开始。

    光学系统,不仅要有透镜,还要有“膜”。

    增透膜、高反膜。没有膜,激光会在界面上反射、损耗,甚至形成鬼影。

    对于193nm的深紫外光来说,镀膜是地狱级难度。

    “林董,”负责光学工艺的张教授拿着一份报告,脸色灰败。

    “我们用国产的电子束蒸发镀膜机,试镀了十次。全部失败。”

    “为什么?”

    “致密度不够。”

    张教授解释道:“电子束蒸发的膜层,微观上是柱状结构,中间有空隙。水分子会钻进去。在193nm的高能光子轰击下,水分子会电离,产生氢氧根,导致膜层迅速老化、吸收增加。”

    “吸收增加意味着什么?”

    “意味着发热。接着就是激光诱导损伤。”

    张教授拿出一片废弃的镜片。镜片中心,有一个明显的黑色烧蚀坑。

    “只要开机十分钟,膜就会烧穿。”

    “我们需要离子束溅射镀膜机。”张教授断言,“只有IbS打出来的膜,才是非晶态的、致密的、无针孔的。”

    “但是,IbS设备被美国列在瓦森纳协定的核心禁运名单里。Veeco和oxford Instruments,绝对不会卖给我们。”

    这是一个死循环。

    要搞深紫外计算 -> 必须要有高损伤阈值的膜 -> 必须要有IbS设备 -> 买不到。

    “能不能自己造IbS?”林远问。

    “原理我们懂。但是,核心的射频离子源,需要极其精密的磁场约束和栅极加工。国内的离子源,束流不稳定,打出来的膜厚度不均匀。”张教授摇头。

    林远沉默了。

    没有设备,巧妇难为无米之炊。

    “既然物理镀膜走不通……”

    林远盯着那个烧蚀的黑点。

    “那我们就用化学。”

    “ALd原子层沉积。”

    林远看向李振声。

    “我们在普罗米修斯计划里,不是搞到了tdmAt的前驱体工艺吗?那是用来做半导体栅极的。”

    “现在,我要你们把ALd技术,用到光学镀膜上!”

    “ALd是一层一层原子长的。它的致密度,比IbS还要高!”

    “但是,”张教授犹豫道,“ALd太慢了。长一微米要几天。而且,ALd可用的光学材料太少,折射率匹配很难。”

    “那就做混合膜系。”

    林远在白板上画了一个三明治结构。

    “底层:用国产电子束镀膜,做厚度。”

    “表层:用ALd镀一层50纳米的致密保护层,做封孔!”

    “就像给疏松的墙面,刷一层防水漆。”

   
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