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第195章 nm光刻胶出炉(2/2)

微一扬。

    “20nm ArF浸没式光刻胶样品,成了!”

    听到这话,旁边的王大海激动的低声欢呼了一声。

    “小树,太牛了,没想到你竟然做出来了,这就是你说的四代光刻机所需要用到的光刻胶吗?”

    “没错,不过现在有个问题就是,没办法评估性能!”

    虽然周小树明白,这一瓶光刻胶肯定是没问题的。

    毕竟自己掌握的系统,按照其中的技术搞出来的东西是不会出现一点偏差的。

    但是关键问题是拿不出来实验报告,那就没办法证明它的性能。

    而光刻胶的性能测试绝非简单的观察和直觉判断,它需要一套极其复杂而且昂贵的专业设备。

    首先是需要在步进式光刻机用于曝光测试,然后用扫描电子显微镜用于高精度测量曝光后图案的分辨率、线边缘粗糙度和侧壁形貌等性能。

    这些设备,动辄数千万甚至上亿,而且大多被国外巨头垄断,对龙国严格禁运。

    燕京半导体研究所内虽然也有一些设备,可那测试精度最高也就只有200纳米。

    根本就测不出来这款光刻胶的极限性能。

    周小树沉思了片刻。

    很快,他眼中闪过一丝决断。

    “如果我没记错的话,汉斯猫的希曼公司那边好像有相关设备,大海哥,你能不能帮我搞到他们那边的送检名单?”

    对方一愣:“这……这种东西他们好像不会对外公布吧?”

    周小树微微一笑:“我当然知道不会对外公布,所以……”

    王大海瞪大眼睛,随后咬牙点点头:“好,我去弄!”

    hai
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