不过我估计日本的佳能和尼康不会采取我们这项技术。他们现在已经占据了光刻设备七八成的市场。”
“嗯，伯恩，我也觉得日本的这两个公司，恐怕还会沿着他们的干式光刻技术走下去。”
此刻，季宇宁的脑海中，不由回想起这项浸润式微影技术，在上一世所走过的技术路径。
林本坚的浸没式光刻技术引起了荷兰的ASmL的注意，ASmL早于佳能和尼康，看到了这项技术的广阔前景，并积极寻求与台积电合作。
自飞利浦分拆后，ASmL公司曾一度默默无闻，既缺乏资金又缺乏技术。80年代的时候，这家公司还只是一个30多人的小公司。
直至2007年之前，日本尼康和佳能一直主导着全球光刻机市场，毕竟光刻机被誉为“现代光学工业之花”，而日本的光学工业实力雄厚。
然而，荷兰ASmL公司却能脱颖而出，击败这两大日本巨头，这背后离不开台积电的推动。当时，台积电的林本坚博士提出了浸润式光刻机的构想，而尼康和佳能则坚持干式光刻机技术，不愿采纳林本坚的观点。因此，林本坚转而寻求与荷兰ASmL公司的合作，这一选择为ASmL公司的崛起奠定了基石。
2004年，ASmL与台积电携手研发出首台浸润式微影机，与此同时，日本尼康也成功推出了干式微影技术的157nm产品。然而，ASmL的浸润式微影机以其更低的应用成本和更优的光波缩短性能，赢得了大多数半导体厂商的青睐，从而逐渐占据了市场主导地位，日本光刻机开始逐渐被边缘化。
随后，ASmL率先生产出EUV光刻机，凭借先进的设备成为光刻机行业的领跑者，而台积电，也凭借着林本坚的技术和ASmL的设备，在晶圆代工领域垄断了巨大的市场份额。
到了2009年，ASmL的市场份额已经攀升至全球70%，并且在EUV光刻机领域保持着独家领先的优势。ASmL的辉煌成就也极大地提升了台积电的行业地位，其后，台积电已稳坐全球第一大晶圆代工厂的宝座。
“北美现在已经没有光刻机公司了，99年的时候，荷兰的ASmL公司以16亿美元的价格收购了北美最后一家主要的光刻机公司SVG，并获得了极紫外技术专利。
所以我们不可能在北美开设光刻机生产基地。
由于和国内的关系，所以海峡对岸的台积电也不可能选择，当然，我们可以让他们成为我们的客户。
剩下的地点，那就是国内，还有香江了。
如果是国内的话，那沪东是首选。
从硬件上看，上沪附近就有国内的第1家核电站，秦山核电站，电网负荷没有问题。”
EUV光刻机的光源系统需消耗兆瓦级电力，单台设备每小时耗电量相当于500户家庭日均用电。
“还有，国内的氮排放，并没有欧洲那么严格。
此外，就是沪东已经有芯片产业园区了。
像国内那个909项目，投资100亿搞的8英寸芯片生产线。就是nec在国内设的那个厂，叫华虹nec，现在基本上已经开始起步了。
他们比较倒霉的是，赶上去年的国际市场存储芯片大降价，存储芯片降了9成。
nec也自顾不暇，所以现在他们面临的是生存问题，他们也要转到芯片代工产业。
另外，就是2000年开始在沪东建立的那个中芯公司，就是台积电的小张总带了300多个工程师，到那里创业的产业园。他们只用了一年多的时间，就把生产线搞起来了。
那才是目前国内最大的芯片代工厂。
从软件上看，沪上也是国内最大的科技教育人才基地。
但放在那里，最大的问题，是未来专利授权的问题，我们在光刻机技术方面，专利和技术的储备还是太少了，我们拿得出手的，最主要的就是刚刚发明的这个浸润式微影技术。
其他不少专利技术还需要授权，而国内目前在专利授权以及技术许可等方面，是存在着壁垒的。”
说到这儿，季宇宁也有些皱眉。
上辈子的阿斯麦的极紫外光刻机，也就是EUV光刻机，其实是最能体现全球化的产品。EUV光刻机其实并不是由某个国家完成的，而是由全世界顶尖的科学家和科技公司共同完成的：以水为介质的浸润式微影方式起源于台积电；超细十三纳米波长紫光技术是由英特尔推动的；德国蔡司则提供了独一无二的反射镜......
阿斯麦公司的股东包括北美的因特尔、台积电、韩国三星、荷兰的飞利浦公司等等。
阿斯麦公司90%左右的零配件都是外购。阿斯麦公司的技术人员也有很多是来自荷兰以外的国家。阿斯麦的EUV光刻机其实是深度嵌入全球产业链的。
当时，为了确保稳定的研发资金流和客户基础，ASmL公司实施了一种独特