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第807章 光刻机技术(2/2)

国家的角色应当是产业政策的制定者和扶持者。

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    芯片产业有一个特殊的地方,就是那个摩尔定律。

    根据摩尔定律:每三年芯片特征尺寸缩小三成,集成度提高4倍。或者可以表述成,每一年半到两年的时间,芯片的集成度翻倍。

    国家直接进行投资、建设,就会赶不上它的这个翻倍的速度,往往会出现国家引进,建设,生产,落后,然后只能再引进,再建设。

    这样循环下去,国家也赔不起。这也是芯片产业一定要搞市场化的原因。”

    小季在这种最高层面的会晤中,提到了光刻机技术。

    他在等那位发明浸润式微影技术,也就是浸润式光刻技术的海峡对岸的那位林本坚。

    这位老兄现在还是有自己的公司,在硅谷,叫领创公司,明年2000年互联网泡沫破裂后,他的公司也完了。那个时候,他会回到海峡对岸,加入那个着名的芯片代工厂。

    那个时候季宇宁希望能够招揽他,加入自己的麒麟研究院,并和他共同研发前世在2002年诞生的那个代替了以往干式光刻技术的浸润式微影技术,那个足以颠覆光刻机市场的技术。

    那个技术,革新了集成电路的制程,使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级。

    可以说,2002年林本坚发明的这项技术彻底改变了集成电路的生产。

    这项技术直接将日本的尼康、佳能两家公司,从独霸天下的王者宝座上给拉了下来,同时使荷兰的阿斯麦尔(ASmL)公司,摇身一变成为了这个行业的巨头。

    可惜,阿斯麦这家公司很快就被华尔街的资本控制了。

    这一世,小季同志希望在光刻机技术更新换代的时候,介入这个产业。哪怕这个产业投资巨大,另外未来他有可能承担的风险也比较大。但他还是希望能够帮助国内在芯片产业上实现突破。

    季宇宁考虑未来这个浸润式光刻技术的诞生,可以让这个研发成果产生在国内的沪上他的麒麟研究院。

    如果从一开始,这项技术的诞生,就有国内的成分,那么这项技术就是国内的。未来,这项技术就可以名正言顺的排斥北美或者欧洲资本的觊觎,诸如华尔街资本的投资。

    而且,那个时候,欧美的相关机构对于国内芯片产业的一些出口技术限制,也一定会放宽。

    hai
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